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卓之家電子光學超純水解決方案
時間:2017-06-23 閱讀: 945

電子光學元器件制造概述

隨著信息時代的到來,作為電子工業的核心—超大規模集成電路有著巨大的市場需求。在集成電路生產的幾百道工序中,其80%以上需高純水清洗。水中的各種超微量雜質都會對產品產生重要影響。因此,VLSI和 ULSI對水質的要求成為高純水水質的極至。電子工業中其他部門對純水和超純水均有著廣泛的需求,如彩色顯像管的生產等等。

超純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。超純水在電子工業主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出。半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備,這是一種制取超純水的首選工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝。
 

超純水設備 /><br /> 超純水設備</p><p class=
電子工業用超純水的應用領域

1)半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

2)超純材料和超純化學試劑。

3)實驗室和中試車間。

4)汽車、家電表面拋光處理。

5)光電產品。

6)其他高科技精微產品。
 

電子工業用超純水設備
電子工業用超純水設備


制備電子工業用超純水的工藝流程

電子行業制備超純水的工藝大致分成以下幾種:

方案一:

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15 MΩ?cm)

方案二:

預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-二級反滲透-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17 MΩ?cm)

方案三:

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18 MΩ?cm)

在電子光學超純水設備設計上,通常采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝;或者是全膜法處理工藝:UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ?cm以上。

為獲得電子光學行業用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2MΩ?cm)的理論超純水,在普通EDI超純水設備后,通常還裝設拋光混床進行最終的精處理。這種拋光混床用樹脂是相對密度很接近的陰樹脂和陽樹脂的混合物,由于無法將這種樹脂的陰、陽樹脂分離,不能用酸堿將它們分別再生,所以這種拋光樹脂失效后,棄之不用。拋光混床又稱一次性混床,一般情況用在工藝末端,用來更進一步提高產水水質。拋光混床的樹脂是不能再生重復使用的。一般出水水質都能達到18兆歐以上,以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。

       電子光學在生產過程中需要大量超純水清洗,卓之家環保實業有限公司會根據客戶需求為廣大新老客戶提供專電子工業超純水解決方案。

 

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